主要特点和优势
PEALD 实现最佳薄膜均匀性 < 1 %
SENTECH SILAYO等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统专为大型三维物体和成批小型基板上的保形和均匀光学镀膜而设计。森泰克专有的平面三螺旋天线（PTSA）可为均质光学镀膜提供均质等离子体。
样品直径达 330 毫米，高度达 100 毫米
SENTECH SILAYO PEALD 系统可对直径达 330 毫米、垂直尺寸达 100 毫米的样品进行均匀涂覆。
利用射频偏压进行应力控制
通过可选的射频偏压基底电极，可以改变层的特性（如应力和折射率）。
SENTECH SILAYO PEALD系统将SENTECH ALD和PEALD产品组合扩展到330毫米基底和三维基底上的沉积。为了确保极佳的层厚均匀性和一致性，PEALD 被用于沉积光学薄膜，如抗反射涂层或光学滤光片系统。SENTECH SILAYO 将 SENTECH 平面三螺旋天线 (PTSA) 电感耦合等离子体 (ICP) 源的优势用于 PEALD 加工。
灵活性和模块化
SENTECH SILAYO PEALD 系统专为在大型和三维形状基底上沉积材料而设计，尤其适用于对镀层性能有较高要求的光学镀膜，例如：高精度的厚度和成分控制、光滑的表面和锐利的界面、应力控制（尤其适用于高厚度的多层堆叠）、三维形状上的高均匀性和一致性，以及降低沉积温度以实现低损耗加工。
该系统可选择配备 SENTECH 的专有技术。 AL 实时监控器 用于现场监测。
SENTECH SILAYO 由先进的硬件和 SENTECH SIA 软件控制，采用客户端-服务器结构。所有组件的实时控制均采用成熟可靠的可编程逻辑控制器 (PLC)。
