主要特点和优势
纹理硅晶片
使用 SENTECH SER 800 光伏光谱椭偏仪，可以测量纹理单晶硅和多晶硅晶片上的抗反射涂层和钝化层。
多层 AR 涂层
氧化硅涂层2/ 氮化硅xAl2O3/ 氮化硅x和 SiNx1/ 氮化硅x2可以分析多晶硅、aSi/ITO、Perovskites。
操作简便
SENTECH SER 800 光伏分光椭偏仪操作简便，适合专家和初学者使用。配方模式特别适用于质量控制所需的常规应用。
用于光伏的 SENTECH SER 800 光伏光谱椭偏仪符合新型太阳能电池技术（如 PERC、TOPCON、HJT 和 Perovskites 技术）的研发要求。它操作简便，测量灵敏度高，具有去极化校正功能和特殊的集光光学系统，是在粗糙样品表面进行光伏应用的理想工具。
带有碱性纹理表面的晶体硅太阳能电池测量结果
光伏研发的灵活性
SENTECH SER 800 PV 是分析纹理晶体硅和多晶硅太阳能电池抗反射涂层和功能层的理想工具。单层薄膜（SiNx二氧化硅2二氧化钛2Al2O3ITO、aSi、多晶硅和 Perovskites）和多层叠层（SiNX/ 二氧化硅2SiNx1/ 氮化硅x2SiNx/ Al2O3，......）进行测量。
该工具基于步进扫描分析仪测量模式。步进扫描分析仪模式允许测量参数与粗糙的样品表面相匹配，同时所有光学部件都处于静止状态。SENTECH SER 800 PV 的光源、光学元件和检测器经过优化，可快速准确地测量光伏应用中的折射率、吸收率和薄膜厚度。此外，该工具还满足 SENresearch 光谱椭偏仪系列的所有要求。
光谱射线/4用于 SENTECH SER 800 PV 的 SENTECH 专利椭偏仪软件包含两种操作模式。配方模式可轻松执行质量控制中的常规应用。带有图形用户界面的交互模式适用于研发应用和新配方的开发。
