主要特点和优势
亚安氏精度
稳定的氦氖激光器可确保 0.1 Å 的精度，用于超薄单层薄膜厚度测量。
高速
SENTECH SE 401adv 激光椭偏仪用于原位快速测量，使用户能够监测单层薄膜的生长和终点检测，或绘制样品的均匀性图。
测量的椭偏角具有高度稳定性和可重复性
SE 401adv 激光椭偏仪用于原位测量，可监测反射样品表面在不同环境下的生长和蚀刻过程。它能测量椭偏角度 Ψ 和 Δ 的时间相关性，并实时计算厚度和折射率。
SE 401adv 可通过最大 200 毫米的测绘、用于原位测量的液态池、摄像机、自动对焦、模拟软件和经认证的标准晶片来满足您的需求。
灵活性和模块化
SENTECH SE 401adv 原位激光椭偏仪可用于从可选择的特定应用入射角度对单层薄膜和基底进行表征。自动准直望远镜可确保在大多数具有平整反射表面的吸收或透明基底上进行精确测量。完全集成的多角度测量支持（40 ° - 90 °，步长为 5 °）可用于确定层叠的厚度、折射率和消光系数。
SENTECH SE 401adv 是用于测量超薄单层薄膜厚度的激光椭偏仪。SENTECH SE 401adv 原位激光椭偏仪的各种选项支持微电子、光伏、数据存储、显示技术、生命科学、金属加工以及其他许多尖端技术领域的应用。
SENTECH SE 401adv 可通过最大 200 毫米的测绘、用于原位测量的液体池、摄像机、自动对焦、模拟软件和经认证的标准晶片来满足您的需求。
进一步了解为什么 SENTECH SI 400adv 多角度激光椭偏仪也是现场使用的正确选择。
的选项 SE 400adv 支持许多行业的应用：
- 微电子学
- 光电
- 数据存储
- 显示技术
- 金属加工
