主要特点和优势
半自动化桌面质量控制
自动光谱反射仪 SENTECH 1000 马币 质量控制 是一种光学反射仪，用于对图案化基底上的薄膜和块状材料进行质量控制。它是小规模和大规模生产中随机取样、工具鉴定和统计过程控制 (SPC) 的理想之选。
通过人工处理晶片对图案晶片进行质量控制
SENTECH 1000 马币 质量控制 易于手动加载。然后，图案识别、映射测量、分析以及报告结果和统计数据都是全自动进行的，适用于 200 毫米的图案晶片。
集成到实验室和工厂环境中
SENTECH 1000 马币 质量控制 还可通过 SECS/GEM 集成到制造执行系统中。
自动光谱反射仪 SENTECH 1000 马币 质量控制 设计用于在透明或吸收性基底上快速、简便地测量透明和半透明薄膜的厚度，以便在工业生产过程中进行质量控制。该工具可测量的薄膜厚度范围为 20 纳米到 50 纳米。 微米，可应用于小于 100 微米的测试图案。
灵活性和模块化
SENTECH 1000 马币 质量控制 自动光谱反射仪可提供正常入射角下的反射率光谱，SENTECH SpectraRay/4 软件可分析薄膜厚度、吸收率、成分、能隙、颜色和光谱带宽等参数。模式识别用于测量结构化样品。
该工具的操作流程非常简单，只需放置晶片，启动自动流程，该工具就会返回精确的图案识别、测量和映射，以及精确、可重复的统计结果。
光谱射线/4 是用于 SENTECH 系统的综合光谱椭偏仪软件。 1000 马币 质量控制.它包括两种操作模式：配方模式和交互模式。配方模式便于执行常规应用。交互模式通过交互式图形用户界面指导椭偏测量。
配置：
- 200 毫米或 300 毫米 x-y 绘图平台
- 光谱范围扩展至近红外
- 缩小光斑尺寸的光学器件，可在小于 90 μm 的方形内进行测量
- 测量晶片弯曲和应力的选项
- 使用 SEC/GEM 协议与 MES 连接的软件接口
