主要特点和优势
快速工艺开发和优化
利用单原子层沉积 (ALD) 或原子层蚀刻 (ALE) 循环，可以快速、轻松地开发和优化原子层工艺。SENTECH AL 实时监控器 以 40 毫秒的超高时间分辨率显示吸附和解吸。可节省工艺、基质、前驱体和气体的开发时间。
保存前体
使用 SENTECH 优化后，ALD 加工变得更加高效 AL 实时监控器.节省了前体和加工时间。
前体控制
当前驱体供应耗尽时，SENTECH 检测到的每个周期的增长变化会立即显示出来。 AL 实时监控器.
SENTECH AL 实时监控器 用于快速工艺开发的 SENTECH AL Realtime Monitor 是一种经过验证的光学诊断工具，可对单个 ALD 和 ALE 周期进行超高分辨率的分析。SENTECH AL 实时监控器的主要应用是在不破坏真空的情况下分析薄膜特性（生长速率、厚度、折射率以及蚀刻速率），在短时间内开发新工艺，以及实时研究 ALD 和 ALE 循环过程中的反应机制。
灵活性和模块化
创新的 SENTECH AL 实时监控器 是专为快速高效地开发和优化 SENTECH PEALD 和 ALD 系统的工艺而设计的。
一个软件就能轻松操作 SENTECH PEALD 系统、SENTECH ALE 系统和 SENTECH AL 实时监控器.
大型光学常数材料库可支持新工艺的开发，并可通过现场表征进行扩展。
SENTECH AL 实时监控器 完全集成到 SENTECH SIA 操作软件中，确保操作简便。
实时分辨率
