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      来自 SENTECH 的低损伤等离子蚀刻和沉积系统
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原子层沉积系统

查找最佳原子层沉积系统，为超薄针孔薄膜和无颗粒薄膜提供出色的均匀性和一致性，甚至可达到几纳米。

精确的厚度控制和均匀性

为什么 ALD 可以解决您的应用难题？

原子层沉积 (ALD) 为薄膜生长提供了卓越的精度。气态前驱体与基底之间发生连续、自限化学反应，每个循环沉积一个原子层，从而实现精确、保形和均匀沉积。

用于在大型基板上进行光学镀膜的 SILAYO PEALD 系统

SENTECH SILAYO 是用于光学镀膜和 [...] 的等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统。

SI PEALD 等离子体增强原子层沉积系统

SENTECH SI PEALD 可在 [...] 条件下对敏感基材和涂层进行均匀的保形涂覆。

Al 实时监控激光椭偏仪

SENTECH AL 实时监控器是一种成熟的光学诊断工具，可快速处理 [...]

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SENTECH Instruments and PVA TePla Join Forces to Expand Semiconductor Metrology Portfolio

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森泰克领导层公告

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