森泰克仪器有限公司（SENTECH Instruments GmbH）、柏林工业大学（TU B）、柏林亥姆霍兹材料与能源中心（HZB）和联邦物理技术研究院（PTB）共同发起了一个项目，该项目由柏林投资银行（Investitionsbank Berlin）作为ProFIT项目资金的一部分提供资助。
在 "薄膜新型材料技术层系统光学参考数据"（OptiRefS）项目中，将在未来三年内开发用于波长范围在 200 纳米以下的薄膜材料椭偏仪的新型参考材料。将开发和验证一种方法，用于确定具有充分依据的不确定性预算的可追溯光学数据。
今后，计量光源（MLS）的真空紫外（VUV）椭偏仪将遵守计量标准，这是一种确定可追溯光学数据（包括折射率、吸收系数和层厚度）的方法。在具有确定表面结构的基底上测试的方法将转用于技术薄膜系统。为此，HZB 和 TU B 将生产具有可变阶跃密度的化学钝化硅基片和硅基片上的石墨烯层。SENTECH 将生产 Al2O3/硅层结构。SENTECH 的目标是提供工艺和参考样品，以便在德国首次对从紫外到真空紫外光谱范围内应用的折射率和层厚度进行符合 ISO9001 标准的认证。
