传感器

了解森泰克等离子系统和计量工具如何成为加工先进传感器应用的理想选择。
Dekoratives Bild
Dekoratives Bild

传感器

传感器是检测和测量环境中的物理特性或变化并将其转换为电信号的设备。这些属性包括光、温度、压力、湿度、运动等。 检测速度快、效率高、体积小,使这些设备非常适合用于许多尖端和不断发展的工业应用。森泰克的系统和工具被广泛应用于各种关键的传感技术,包括光电探测器、气体传感、电化学和电化学传感器。 量子传感.

行业

光电探测器 是用于检测和测量光或光子的设备。它们将进入的光子转换成可以处理和分析的电信号。 光电探测器是光学传感器中的光敏元件。当集成到传感器系统中时,它们能够检测和测量光的强度、颜色或特定波长的存在。

气体传感 涉及检测和测量周围环境中气体的存在和浓度。这在环境监测、工业安全、医疗保健等各个领域都至关重要。传感器通过将与特定气体存在相关的物理或化学变化转换为可测量的信号,在气体传感中发挥着重要作用。

量子传感 利用量子力学原理实现高灵敏度测量。在传感器方面,量子传感是指利用量子特性来提高传感设备的精度和灵敏度。

了解更多有关我们成功进行 PbS 红外探测器阵列等离子刻蚀的信息

几十年来,基于硫化铅(PbS)的半导体器件已广泛应用于军事导弹跟踪、夜视、医疗成像和热感应等各种领域。由于具有较高的探测能力和较低的成本,PbS 探测器在行业中处于领先地位。

在 1 µm 至 3 µm 的红外光谱范围内,成本比响应速度更快。
由于化学沉积方法和光刻技术的进步,红外多元素和阵列传感器的开发开辟了广泛的应用领域。光刻图案化和蚀刻对于实现 PbS 阵列探测器至关重要。通常使用湿法蚀刻和离子研磨来对 PbS 活性区域进行图案化。
干法蚀刻是一种卓越的技术,由于可以制造出具有垂直侧壁和低表面损伤的较小几何形状,因此已被证明可以制造出低成本的高性能器件。在本应用说明中,使用 SENTECH 的 ICP-RIE 工艺对 PbS 活性区域进行了垂直蚀刻,对金底层具有良好的选择性。 SI 500 ICP-RIE 蚀刻系统

通过原位端点检测,实现了垂直剖面和高蚀刻率。在使用 SENTECH RIE™ 对铅锡探测器阵列进行 ICP-RIE 时,对金底层具有良好的蚀刻选择性。 SI 500 配备 SENTECH PTSA ICP 等离子源的蚀刻工具。
低离子能量下的极窄离子能量分布、与射频功率无关、低压下的稳定等离子体以及低等离子体功率是使用 SENTECH 成功蚀刻的关键特征。 SI 500 系统与 SENTECH PTSA 等离子源。.

了解我们在 200 毫米晶片上通过等离子体增强原子层沉积氧化锌的情况

氧化锌(ZnO)是一种著名的半导体材料。它具有 3.3 eV 的宽直接带隙和透明特性,可用于太阳能电池、气体传感器或透明导电层等多种不同应用。在所有情况下,在纹理基底上精确控制生长变得越来越重要。因此,以二乙基锌(DEZn)为金属前驱体的氧化锌原子层沉积(ALD)技术越来越受到人们的关注。ALD 是一种沉积极薄层的化学方法。层的生长是由两种前驱体材料之间连续的、自我限制的表面反应产生的。因此,即使在复杂的结构上也能实现保形沉积。基于多年开发和制造 PECVD 和 ICPECVD 设备的经验,森泰克开发出了 SENTECH SI PEALD 利用真正的远程等离子源进行等离子体增强 ALD 的系统。 使用 SENTECH SI PEALD 在配备 SENTECH CCP 真正远程等离子源的系统中,氧化锌的 PEALD 成功地在较低的基底温度下沉积,并在 200 毫米的硅晶片上实现了较低的不均匀度值。

了解我们成功对金刚石进行各向同性和各向异性蚀刻,以创建定制结构的情况

金刚石的独特性质,如较长的自旋相干时间及其容纳氮空位(NV)中心的能力,使金刚石成为迅速发展和扩大的量子应用领域的最佳候选材料。NV 中心可用作量子计算中的量子比特,也可用于感应弱磁场和弱电场。这些技术的开发需要低损耗的等离子体蚀刻工艺。

 

此外,各向同性和各向异性等离子体蚀刻也是为各种应用生产定制金刚石结构所必需的。

利用等离子体蚀刻技术蚀刻金刚石 SI 500 配备 PTSA ICP 源的 ICP-RIE 系统已成功生产出具有高选择性、足够蚀刻率、低粗糙度和低损伤的定制金刚石结构。这些结构适用于各种量子技术应用,如量子计算和量子传感。各向异性蚀刻适用于减薄金刚石,以用于微机械系统和量子传感支柱结构。同时,各向同性蚀刻可用于创建量子通信的独立波导。研究结果证明了 SENTECH 等离子刻蚀技术的有效性。 SI 500 为量子技术量身定制钻石结构。

联系我们并索取应用说明

了解更多来自 SENTECH 的应用解决方案

系统和相关产品

SENTECH Modular Cluster System

用于等离子蚀刻和沉积的簇配置

SENTECH 群集工具包括等离子刻蚀和/或沉积模块、传输室和真空 [...]
SENTECH SI 500 ICP-RIE Plasma Etch System

SI 500 ICP-RIE 系统

SENTECH SI 500 ICP-RIE 高端等离子刻蚀系统采用电感耦合等离子体 (ICP) [...]

新闻